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深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH

簡要描述:v應(yīng)用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號

廠商性質(zhì)

代理商

更新時間

2024-10-22

瀏覽次數(shù)

479
詳細(xì)介紹

v 應(yīng)用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)

v 產(chǎn)品特點:

? 光滑側(cè)壁工藝

? 高刻蝕速率腔刻蝕

? 高深寬比工藝

? 錐形通孔刻蝕

? 機(jī)械或靜電壓盤,加熱內(nèi)襯         

? 延長了兩次清洗間的平均時間間隔(MTBC環(huán)形激光陀螺反射鏡

? X射線光學(xué)系統(tǒng)

? 紅外(IR)傳感器

? II-VI族材料,通信濾波器

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